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離子束設(shè)備300Plus

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英國牛津離子束設(shè)備300Plus詳細(xì)介紹
離子束設(shè)備300Plus性能特點(diǎn)

英國牛津 離子束設(shè)備 - Ionfab 300Plus介紹

Ionfab 300Plus是模塊化的離子束（Ion Beam）刻蝕和沉積系統(tǒng)，是用離子束的方法對(duì)樣片進(jìn)行刻蝕和濺射沉積，從而達(dá)到高準(zhǔn)確度、高精度的客戶要求。最大直徑8英寸，厚度最高達(dá)8.5mm的多種類型樣片可以被自動(dòng)進(jìn)片系統(tǒng)裝入反應(yīng)室，帶積分中和的15cm離子源使產(chǎn)品的均勻性得到巨大的提高。

Ionfab300Plus被設(shè)計(jì)成一個(gè)模塊化的離子束系統(tǒng)，用于離子束刻蝕和離子束鍍膜。

　　它已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于各種類型的工藝研究和生產(chǎn)，特別在半導(dǎo)體行業(yè)和光學(xué)鍍膜領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。

離子束設(shè)備 Plasmalab Ionfab300Plus 產(chǎn)品介紹　　

該設(shè)備可以被配置成：

       國際教育局（惰性氣體離子束蝕刻）
       里伯（反應(yīng)離子束蝕刻）
       CAIBE （化學(xué)輔助離子束蝕刻）
       IBSD （離子束濺射沉積
       IASD （離子輔助濺射沉積） 
       RIBD （反應(yīng)離子束沉積）
英文
  • IBE（Inert Gas Ion Beam Etch）
  • RIBE（Reactive Ion Beam Etch）
  • CAIBE（Chemically Assisted Ion Beam Etch）
  • IBSD（Ion Beam Sputter Deposition
  • ·IASD（Ion Assisted Sputter Deposition）
  • RIBD（Reactive Ion Beam Deposition）

    • 　　
    離子束設(shè)備 Plasmalab Ionfab300Plus 典型應(yīng)用： 　　  

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          微波集成電路
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          紅外線探測(cè)器
          薄膜磁頭
         SAW （聲表面波）器件
          介電光學(xué)薄膜
          透視鏡
          金剛石涂層
    英文 
  • GaAs Opto-electronics
  • Microwave integrated circuits
  • InP laser optics
  • Infra red detectors
  • Thin film magnetic heads
  • SAW（Surface Acoustic Wave）devices
  • Dielectic optical coatings
  • X-ray mirrors
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